1. В декабре прошлого года Samsung Electronics договорилась с ASML о строительстве исследовательского центра в Южной Корее и графике закупки оборудования на десять лет.
2. Руководство подразделения Samsung по электронной технике изменилось, и теперь оно не так оптимистично относится к программе закупки сканеров у ASML.
3. Samsung уведомила ASML об ограничении ассортимента закупаемых литографических систем некоторым количеством Twinscan EXE 5200.
4. Samsung приостановила подготовку к строительству исследовательского центра в Хвасоне, который должен был принять оборудование.
5. Представители Samsung подтвердили, что в планах компании по приобретению оборудования класса High NA EUV от ASML ничего не изменилось.
6. Официальные представители сказали, что совместный исследовательский центр будет расположен в оптимальном месте.
7. Неофициальные источники связывают изменения с назначением Чон Ён Хёна на должность главы подразделения Device Solutions в мае.
8. Первоначальные договорённости с ASML были достигнуты ещё его предшественником.
9. Возможно, новое руководство определится с планами и сотрудничество с ASML будет возобновлено при новых условиях.
10. Samsung начнет эксплуатацию High NA EUV системы на год позже Intel.
11. Samsung опередит конкурентов TSMC и SK hynix.
12. Внедрение High NA EUV в массовое производство вероятно произойдет во второй половине текущего десятилетия.
13. Система High NA EUV от ASML способна достигать разрешения в 8 нм.
14. Текущие системы Low NA EUV имеют разрешение 13 нм.
15. Samsung развивает комплексную экосистему вокруг этой технологии, сотрудничая с такими компаниями, как Lasertec для проверки масок, JSR для фоторезистов, Tokyo Electron для машин травления и Synopsys для инструментов проектирования.
16. Стоимость систем High NA EUV варьируется от 380 до 400 миллионов долларов.
17. Samsung Electronics крупнейший производитель памяти.
18. Samsung собирается получить к концу этого года или в первом квартале следующего литографический сканер ASML TwinScan EXE 5000, который позволяет работать с высоким значением числовой апертуры (High NA).
19. Intel является крупнейшим клиентом ASML на этом направлении и пытается выкупить все доступные для заказа на этот год подобные системы.
20. Подобное оборудование должно позволить Samsung не только наладить выпуск чипов по технологиям «тоньше» 2 нм, но и делать это с более низкой себестоимостью.
21. Samsung призналась в наличии у неё средств инспекции фотомасок японской марки Lasertec, которые адаптированы к технологии High NA EUV.
22. Samsung сможет наладить выпуск первых прототипов продукции на оборудовании такого класса к середине следующего года.
23. В массовом производстве технология High NA EUV будет освоена компанией ближе к 2027 году.
24. Компания TSMC также рассчитывает получить до конца года от ASML свой первый литографический сканер класса High NA EUV, но внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 планирует не ранее 2028 года.Thank you for reading this post, don't forget to subscribe!
sung: Гонка за новыми границами микрочипов
В мире высоких технологий не остается места для покоя. Компании постоянно гонятся друг за другом, стремясь создать все более мощные и компактные микросхемы. И Samsung, безусловно, не отстает в этом соревновании. В декабре прошлого года было объявлено о договоренностях Samsung Electronics с ASML о строительстве исследовательского центра в Южной Корее и поставке оборудования на десять лет.
Samsung, как известно, уже является крупнейшим производителем памяти, а теперь ей предстоит стать лидером в производстве чипов на новейших технологиях. Компания планирует начать эксплуатацию High NA EUV систем ASML на год раньше своих главных конкурентов – Intel, TSMC и SK hynix. Это революционное оборудование позволит Samsung изготавливать чипы с разрешением 8 нм, что вдвое превосходит возможности нынешних систем Low NA EUV (13 нм). Благодаря такому прогрессу компании удастся выпускать микросхемы по технологиям «тоньше» 2 нм с более низкой себестоимостью.
Несмотря на первоначальный оптимизм, планы Samsung относительно приобретения сканеров у ASML несколько меняются. Руководство подразделения Samsung по электронной технике, которое недавно перешло под контроль Чон Ён Хёна, решило ограничить ассортимент закупаемых литографических систем Twinscan EXE 5200.
Однако представили Samsung подчеркивают, что планы по приобретению High NA EUV от ASML остаются неизменными. Совместный исследовательский центр будет располагаться в оптимальном месте. Возможно, новое руководство компании определится с планами и сотрудничество с ASML будет возобновлено при новых условиях.
Samsung активно развивает комплексную экосистему вокруг High NA EUV. В сотрудничестве с такими гигантами как Lasertec (проверка масок), JSR (фоторезисты), Tokyo Electron (машины травления) и Synopsys (инструменты проектирования) Samsung собирается создать надежный фундамент для новых технологий.
Уже к концу года или в первом квартале следующего года Samsung получит свой первый High NA EUV сканер ASML TwinScan EXE 5000. Эта машина позволит компании начать изготовление первых прототипов продукции на оборудовании такого класса уже к середине следующего года. В массовом производстве технология High NA EUV будет освоена ближе к 2027 году, превосходя темпы TSMC, которая планирует внедрить подобное оборудование в массовом производстве чипов по технологии A14 не ранее 2028 года.
Samsung уже сейчас тестирует новые “рисунки” элементов полупроводниковых чипов в сотрудничестве с Synopsys. Компания переходит от прямых линий к кривым, что позволит создавать более плотные структуры на чипах и продвинуться в освоении более тонких техпроцессов. В мире микрочипов Samsung закладывает фундамент для будущего, и эти шаги навстречу High NA EUV технологии – яркое тому подтверждение.